詳細介紹

本設備是一款小型高真空電阻蒸發鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，也可整機放置于手套箱內，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者國內最優的配置，從而提高設備的穩定性；另外自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。
該設備配3組電阻蒸發源（可兼容金屬與有機蒸發），適用于實驗室制備金屬、有機物蒸發。廣泛應用于高校實驗室和科研院所制備高質量功能薄膜、蒸鍍電極等。特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發領域。
設備主要配置表

真空腔室	1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接，上開蓋和前開門結構
真空系統	機械泵+分子泵（國產或進口可選）， 極限真空優于8*10-5Pa（設備空載抽真空24h），大氣~8*10-4Pa≦30min；采用電阻電離一體化真空規管讀取真空度；閥門采用電磁驅動擋板閥和手動限流閥
蒸發系統	蒸發源采用3組水冷銅電極，蒸發電源采用2KW逆變式電源，配源間防污隔板
基片臺	可拆卸式，尺寸60*60mm，旋轉：0-20r/min可調，可加熱至300℃，可選水冷或是帶角度調節功能的基片臺
膜厚監控儀	可選配進口或國產膜厚監控儀在線監測和控制蒸發速率、膜厚
控制系統	PLC+觸摸屏智能控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實現一鍵抽停真空
設備尺寸	L60cm×W60cm×H96cm 機電一體化機架，預留1個CF35法蘭接口

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